대만 경제부가 3월 31일 일본 구마모토현에 위치한 TSMC 제2공장의 3나노 반도체 생산 계획을 공식 허가했습니다.

이 결정은 TSMC가 기존 6~12나노 공정 제품 대신 최첨단 3나노 공정으로 전환해 고부가가치 AI 및 첨단 산업용 반도체 시장에 대응하기 위한 전략적 조치입니다.
현재 TSMC는 구마모토 제1공장에서 자동차 및 산업용 기기를 위한 반도체를 생산 중이며, 제2공장은 건설 중입니다.

2028년부터 3나노 반도체 양산을 목표로 하며, 월간 생산 능력은 약 1만 5000장에 이를 전망입니다. 이번 허가로 일본 내 최초의 3나노 반도체 생산이 실현됩니다.
TSMC 최고경영자 웨이 저자는 지난 2월 일본 총리에 3나노 생산 전환 계획을 알렸으며, 대만 경제부도 시장 수요와 고객 요구를 반영한 결과라고 설명했습니다.

TSMC는 현재 3나노 제품을 전량 대만에서 생산 중이며, 2027년부터 미국에서도 생산을 시작해 이번 구마모토 생산까지 포함하면 세 번째 글로벌 거점으로 확장되는 셈입니다.
3나노 반도체는 미세 공정 기술을 적용한 최첨단 칩으로, 미국 엔비디아 등 글로벌 기업이 개발 중인 차세대 AI 반도체 핵심 부품과 회로에 필수적입니다.

향후 AI, 고성능 컴퓨팅 등 산업 수요 증가가 예상되어 대규모 투자와 생산 확대가 이어질 전망입니다.
이번 생산 허가는 일본 최초의 3나노 반도체 제조라는 점에서 기술 경쟁력 강화와 경제적 부가가치 창출에 큰 의미가 있습니다.

일본과 아시아 반도체 공급망에서 TSMC의 역할 확대를 통해 일본 내 산업 성장 촉진 및 글로벌 경쟁력이 강화될 것으로 기대됩니다.
(이해를 돕기위해 재구성 된 사진들)
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